原位量子物态磁学调控单元(脉冲激光沉积单元)采购项目意向公开
发布时间: 2026-07-27
原位量子物态磁学调控单元(脉冲激光沉积单元)采购项目
意向公开
采购单位: | 某单位 |
项目名称: | 原位量子物态磁学调控单元(脉冲激光沉积单元)采购项目 |
预算金额(万元): | 320 |
采购品目: | 真空获得设备(A02052401) |
采购需求概况: | 拟购设备原位量子物态磁学调控单元的重要组成部分。脉冲激光沉积(PLD)是一种高性能的薄膜材料生长设备,其原理是将脉冲激光器所产生的高功率脉冲激光聚焦作用于靶材表面,靶材的表面产生高温、高压等离子体,并作定向化运动到衬底基片,当它与加热到一定生长温度的衬底基片相接触时沉积形成薄膜。主要用于各种多元化合物薄膜的沉积,包括金属、氧化物等高质量薄膜,在生长超导、铁磁、铁电等氧化物薄膜方面具有独特优势,并可通过对掺杂、氧缺陷、晶面取向、晶格应力、表面修饰的控制,实现对材料物性的精准调控。 |
联系人: | 王老师 |
联系电话: | 0755-88012181 |
预计采购时间: | 2026年9月 |
备注: | 无 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
2026年7月27日